ITO靶材的核心用途是在磁控溅射工艺中作为“溅射源”。磁控溅射是一种常见的薄膜沉积技术，通过高能离子轰击靶材表面，使靶材原子被“敲击”出来，终沉积在基板上，形成一层均匀的ITO薄膜。这层薄膜厚度通常在几十到几百纳米之间，却能同时实现导电和透光的功能。
制备完成后，ITO靶材在实际应用中还会遇到一些问题：
溅射不均匀：如果靶材内部存在微小缺陷或成分偏差，溅射过程中可能出现局部过热，导致薄膜厚度不一致。
靶材破裂：在高功率溅射时，靶材承受的热应力可能超出其极限，造成破裂，进而影响生产线的连续性。
资源限制：ITO靶材依赖铟这种稀有金属，而铟的全球储量有限，价格波动较大。这不仅推高了成本，也促使业界寻找替代方案。
随着高科技产业的迅猛发展，稀有金属铟的需求日益增长。铟靶材与ITO靶材作为关键材料，在电子、光电及半导体等领域发挥着重要作用。本文旨在探讨铟靶材与ITO靶材的区别，以及它们在回收技术、环保与经济效益方面的差异。
铟回收具有重要的环保和经济效益。通过回收废旧靶材中的铟，可以减少对新资源的开采，降低环境污染，实现资源的可持续利用。此外，回收铟还能稳定市场供应，降低生产成本，促进相关产业的可持续发展。