1、高纯碲靶材加工工艺流程

原料

原料检测

成型

热处理

机加工成型

选用进口或

国产高纯碲

ICP

XRD，GDMS

热等静压烧结，真空感应熔炼

电子束熔炼，悬浮熔炼等

晶粒细化

切割，磨床

车床，加工中心

成品检测

绑定

探伤扫描

合格

包装出库

交付客户

检测成品外观

尺寸公差

金属化

绑定

靶材专用

包装

2、应用领域机设备

2-1适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。

2-2应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。

3、靶材规格

3-1 材质：碲（TeTarget））。

3-2 纯度：99.99%，99.999%，99.9999%。

3-3 晶粒度：4