超高密度成型：超高密度成型工艺（≥99.5%）可使靶材具有更好的性能，提高在真空溅射过程中的稳定性和使用寿命。
晶粒定向控制：晶粒定向控制技术能够控制铟靶的晶粒尺寸和方向，提升溅射薄膜的质量和性能，满足高端应用领域的需求。
触控技术领域：电容式和电阻式触摸屏中，ITO 作为电极材料，其透明性和导电性决定了触控设备的灵敏度和视觉效果。
精铟是指纯度的金属铟，通常纯度在 99.99%（4N）以上，高纯度规格可达 99.9999%（6N）甚至更高.精铟是通过精炼工艺去除铟原料中的杂质（如铅、锌、镉、锡等）后得到的高纯度金属，呈银白色光泽，质地柔软，具有良好的延展性和导电性。
精铟的制备需经过多步精炼，核心工艺包括：
原料预处理：以锌冶炼副产物（如浸出渣、烟灰）或含铟废料为原料，通过酸浸、萃取等方式初步分离铟。
电解精炼：将粗铟溶解为铟盐溶液（如硫酸铟），通过电解沉积得到纯度约 99.95% 的粗精铟。
深度提纯：
真空蒸馏：在高真空条件下利用铟与杂质的沸点差异（铟沸点 2080℃，杂质如锌沸点 907℃）去除低沸点杂质。
区域熔炼：通过移动加热区使杂质在固液界面重新分布，多次操作后可将纯度提升至 6N 以上。
化学提纯：利用萃取剂（如三丁基氧化膦）或离子交换树脂进一步去除微量金属离子。