热压法：把铟粉末在高温和高压下压制成型，能够提高靶材的致密度和机械强度，同时有助于减少气孔和其他缺陷。
冷等静压法：利用液压介质在室温下对铟粉末施加均匀压力使其成型，可制造出高密度和均匀性的靶材，但需要后续的烧结处理来提高其机械性能。
平板显示（LCD/OLED/Micro-LED）
核心用途：制备透明导电薄膜（如氧化铟锡，ITO），作为显示面板的电极层和触控层。
LCD：用于玻璃基板的 ITO 薄膜，实现像素电极的导电功能。
OLED/Micro-LED：作为柔性基板（如 PI 膜）的透明电极，满足柔性显示对材料延展性的要求。
市场占比：全球超过 70% 的铟靶材用于显示面板生产，是 LCD/OLED 产业链的关键材料。
溅射时间与沉积厚度
厚度监控：使用石英晶体微天平（QCM）实时监测薄膜沉积速率，结合靶材消耗速率（约 0.1~0.5 μm/min，与功率相关），控制溅射时间。
靶材利用率：避免过度溅射导致靶材 “打穿”（剩余厚度＜2 mm 时需及时更换），通常平面靶材利用率约 30%~40%，旋转靶可提升至 60% 以上。
不管形态如何，含量高低，数量多少，均可回收提炼。现金交易，免费提供技术咨询服务，并严格为客户保密，中介高佣。多年来我们一直秉着互利双赢诚信经营，共创价值的原则。欢迎新老客户来电咨询洽谈！