光学领域:用于制造反射率与银镜一样高但不会褪色的镜,还可用于制造其他光学器件,如滤光片、光通信器件等。
其他领域:可用于制造低熔点合金,如 24%铟和 76%镓的合金在室温下为液态,此外,还可用于制造整流器、热敏电阻和光电导体等电气组件。
集成电路(IC)制造
用途:作为金属互连层或接触电极材料,用于芯片内部的导电线路、晶体管电极等关键部位。
优势:铟的低熔点和高延展性使其易于加工成极薄的薄膜,满足纳米级制程对材料精度的要求。
溅射气体控制
气体纯度:使用高纯氩气(99.999% 以上),避免氧气、水汽混入导致铟靶氧化(氧化铟导电性下降,易形成电弧放电)。
气压调节:
直流溅射(DC):气压通常为 0.1~10 Pa,低气压下溅射速率高但薄膜致密度低;高气压下薄膜均匀性好但沉积速率慢。
射频溅射(RF):适用于绝缘基底,气压可略高于直流溅射,需根据薄膜厚度要求动态调整。
小金属:粗铟,精铟,ito铟靶材,粗稼,金属镓99.99以及废料。高价回收镍片,铣刀, 数控刀片, 轻质数控刀,废合金针,针尖,铟.铟丝.氧化铟.
高价回收镍片,镍泥,镍催化剂,含镍物料,铣刀, 数控刀片, 轻质数控刀,废合金针,针尖,高价 回收 ( 钽 ) 钽丝 钽粉 钽电容 钽铌 钽钨 ,铟.铟丝.氧化铟.金.金属锗.锗锭99.999等.