载板电镀核心工艺类型
在了解检测标准前，需先明确载板电镀的关键场景，不同工艺的检测重点略有差异：
种子层电镀：通常为薄层高纯度铜（1-3μm），用于后续图形电镀的导电基底，要求低电阻、无针孔；
图形电镀：核心工艺，在线路 / 焊盘区域电镀厚铜（5-20μm，甚至更高），实现电流传输与芯片键合支撑；
凸点（Bump）电镀：如铜凸点、锡凸点，用于芯片与载板的倒装焊互连，要求的高度 / 直径控制；
表面处理电镀：如镍（Ni）、钯（Pd）、金（Au）镀层（ENEPIG/ENIG 工艺），提升焊盘抗氧化性与键合可靠性。
耐环境可靠性：应对封装后长期使用场景
载板需承受高温、湿度、腐蚀等环境，镀层耐环境性决定产品寿命。
耐湿热试验：
条件：85℃、85% RH、1000h；
标准：试验后镀层无氧化、鼓泡、脱落，电气电阻变化率≤10%（IPC-J-STD-020）。
耐盐雾试验：
条件：5% NaCl 溶液、35℃、96h（针对表面处理镀层如 ENEPIG）；
标准：镀层无锈蚀、变色，焊盘可焊性衰减≤15%（IPC-TM-650 2.6.11）。
焊锡耐热性：
条件：260℃焊锡浴中浸泡 10s（模拟回流焊）；
标准：镀层无剥离、起泡，焊盘与焊锡结合率≥95%（IPC-A-600H）。
载板电镀的质量检测需围绕 “高精度、高可靠性、高纯度” 展开，通过多维度检测（几何、附着、微观、电气、环境）确保满足先进封装的严苛需求，同时需结合行业标准与下游定制要求动态调整检测方案。
应用产品类型
各种材料:常规及改良聚酰亚胺，液晶材料，聚四氟乙烯，聚酯树脂，陶瓷基板等;
硬板，软板，软硬结合板，HDI， IC载板等;
尤其适合高纵横比通盲孔多层，软板多层，软硬结合板，IC载板，超细微孔/盲孔10-30微米通孔/盲孔
