ITO靶材在溅射镀膜过程中利用率通常仅30%左右，大量含铟废料（废旧靶材、边角料、镀膜腔室废料）随之产生。过去，这些价值的废料往往被简单处理或堆积。建立从“废靶材→再生铟→新靶材”的闭环体系，成为破解资源约束的黄金路径。
ITO靶材的基本介绍：
主要成分：氧化铟（In2O3）和氧化锡（SnO2）
应用领域：液晶显示、OLED、太阳能电池、触摸屏等
靶材类型：新靶材、废靶材（使用后剩余靶材）
ITO靶材回收的必要性
1. 资源稀缺：铟为稀有金属，资源有限，价格昂贵。
2. 成本控制：回收废旧ITO靶材可降低企业原材料采购成本。
3. 环保要求：减少废弃物排放，符合绿色生产理念。
从用过的ITO靶材中回收氧化铟包括几个步骤，包括溶解、沉淀和焙烧。首先将目标材料溶解在盐酸中，盐酸溶解氧化铟，然后加入氢氧化钠从酸性溶液中析出氧化铟。生成的氢氧化铟然后在高温下焙烧得到氧化铟。