废ITO靶材回收的核心挑战在于：
成分复杂：除In₂O₃、SnO₂外，含粘结剂、金属背板（铜/钼）等。
高纯度要求：再生铟纯度需达99.99%以上，杂质含量需严格控制在ppm级，否则影响新靶材性能。
铟锡分离：分离铟锡是实现价值化的关键。
闭环工艺：价值再造的精益之路
ITO（氧化铟锡，Indium Tin Oxide）靶材广泛应用于液晶显示器、触摸屏、太阳能电池等行业。随着ITO靶材的广泛使用，其回收再利用成为降低成本、减少资源浪费、保护环境的重要环节。
ITO靶材回收流程：
1. 收集废靶材：收集来源：面板厂、镀膜厂等使用ITO靶材的企业。
2. 表面处理/预处理 ：清洗表面杂质、油污、物理去除残留膜层
3. 靶材分离：机械切割或分解、分离金属基板与ITO涂层
4. 湿法冶金回收：用酸（如硝酸、盐酸等）溶解ITO层、萃取液中回收铟和锡元素
5. 纯化与精炼 萃取、沉淀等精细化学手段，获得高纯度的铟、锡化合物
6. 再利用 提纯后的铟、锡用于制备新ITO靶材或其他用途
从电子废物和废ITO靶材等废物来源中回收氧化铟是铟回收的一个重要方面。从这些废源中回收氧化铟可以通过各种工艺实现，包括化学处理、溶剂萃取和离子交换，回收的氧化铟可用于生产各种半导体器件，从而减少对新铟资源的需求，并将铟开采对环境的影响降至。