废ITO靶材回收的核心挑战在于：

成分复杂：除In₂O₃、SnO₂外，含粘结剂、金属背板（铜/钼）等。

高纯度要求：再生铟纯度需达99.99%以上，杂质含量需严格控制在ppm级，否则影响新靶材性能。

铟锡分离：分离铟锡是实现价值化的关键。

闭环工艺：价值再造的精益之路

铟属稀有金属,是一种重要的电子工业材料,在高技术领域有着广泛的应用,主要集中在半导体、透明导电涂层、电子器件、荧光材料、金属有机物等方面。它在地壳中非常稀有而且分散,又称之为稀散金属,铟在地壳中的丰度很低,多种文献报道不一,普遍认为仅011μg/g,至今以其为主要成分的矿床尚未发现,它通常以微量(01005%)的组分共生于与其性质类似的锌、铅、铜和锡等矿物上,一般是从锌、铅、铜和锡等重金属冶炼的烟尘、熔渣中回收生产。

ITO靶材的基本介绍：

主要成分：氧化铟（In2O3）和氧化锡（SnO2）

应用领域：液晶显示、OLED、太阳能电池、触摸屏等

靶材类型：新靶材、废靶材（使用后剩余靶材）

随着科技的飞速发展，ITO靶材的需求量持续增长。然而，ITO靶材的生产过程中需要消耗大量的铟资源，而铟是一种稀有的有色金属，全球储量有限。因此，ITO靶材的回收再利用不仅有助于节约资源，还能减少环境污染，实现可持续发展。