成熟闭环流程包括：
机械剥离：物理分离靶材与金属背板。
溶解富集：酸溶（如盐酸）将铟、锡浸出，固液分离。
铟锡深度分离：
选择性沉淀：控制pH值分步沉淀锡、铟化合物。
溶剂萃取：P507等萃取剂优先萃铟，实现铟锡分离，回收率>95%。
高纯铟制备：萃取液反萃 → 电解/置换得粗铟 → 真空蒸馏/区域熔炼 → 4N以上精铟。
再生靶材制造：精铟氧化 → 与氧化锡混合 → 成型烧结 → 新ITO靶材。
产业意义：从成本中心到价值引擎
ITO靶材回收流程：
1. 收集废靶材：收集来源：面板厂、镀膜厂等使用ITO靶材的企业。
2. 表面处理/预处理 ：清洗表面杂质、油污、物理去除残留膜层
3. 靶材分离：机械切割或分解、分离金属基板与ITO涂层
4. 湿法冶金回收：用酸（如硝酸、盐酸等）溶解ITO层、萃取液中回收铟和锡元素
5. 纯化与精炼 萃取、沉淀等精细化学手段，获得高纯度的铟、锡化合物
6. 再利用 提纯后的铟、锡用于制备新ITO靶材或其他用途
从用过的ITO靶材中回收氧化铟包括几个步骤，包括溶解、沉淀和焙烧。首先将目标材料溶解在盐酸中，盐酸溶解氧化铟，然后加入氢氧化钠从酸性溶液中析出氧化铟。生成的氢氧化铟然后在高温下焙烧得到氧化铟。
随着科技的飞速发展，ITO靶材的需求量持续增长。然而，ITO靶材的生产过程中需要消耗大量的铟资源，而铟是一种稀有的有色金属，全球储量有限。因此，ITO靶材的回收再利用不仅有助于节约资源，还能减少环境污染，实现可持续发展。