在智能手机、平板电脑、超清电视的光滑屏幕背后，ITO靶材（氧化铟锡）是赋予其透明导电魔力的核心材料。作为ITO靶材的关键成分，铟（In）的稳定供应直接关系到全球万亿级显示产业的命脉。然而，这种稀散金属的地缘分布不均（中国储量占全球70%以上）和原生矿产的有限性，使得铟的回收再利用不再是环保课题，更成为保障产业、实现供应链韧性的“闭环”革命。
ITO靶材在溅射镀膜过程中利用率通常仅30%左右，大量含铟废料（废旧靶材、边角料、镀膜腔室废料）随之产生。过去，这些价值的废料往往被简单处理或堆积。建立从“废靶材→再生铟→新靶材”的闭环体系，成为破解资源约束的黄金路径。
成熟闭环流程包括：
机械剥离：物理分离靶材与金属背板。
溶解富集：酸溶（如盐酸）将铟、锡浸出，固液分离。
铟锡深度分离：
选择性沉淀：控制pH值分步沉淀锡、铟化合物。
溶剂萃取：P507等萃取剂优先萃铟，实现铟锡分离，回收率>95%。
高纯铟制备：萃取液反萃 → 电解/置换得粗铟 → 真空蒸馏/区域熔炼 → 4N以上精铟。
再生靶材制造：精铟氧化 → 与氧化锡混合 → 成型烧结 → 新ITO靶材。
产业意义：从成本中心到价值引擎
ITO靶材回收注意事项：
措施：处理酸碱和废液时需注意和环保。
环保合规：废液和残渣需达标处理，避免二次污染。
回收效率：合理选择工艺，提高铟、锡的回收率和纯度。