ITO靶材在溅射镀膜过程中利用率通常仅30%左右，大量含铟废料（废旧靶材、边角料、镀膜腔室废料）随之产生。过去，这些价值的废料往往被简单处理或堆积。建立从“废靶材→再生铟→新靶材”的闭环体系，成为破解资源约束的黄金路径。
ITO靶材回收流程：
1. 收集废靶材：收集来源：面板厂、镀膜厂等使用ITO靶材的企业。
2. 表面处理/预处理 ：清洗表面杂质、油污、物理去除残留膜层
3. 靶材分离：机械切割或分解、分离金属基板与ITO涂层
4. 湿法冶金回收：用酸（如硝酸、盐酸等）溶解ITO层、萃取液中回收铟和锡元素
5. 纯化与精炼 萃取、沉淀等精细化学手段，获得高纯度的铟、锡化合物
6. 再利用 提纯后的铟、锡用于制备新ITO靶材或其他用途
ITO靶材主流回收技术：
机械物理分离：适合较厚靶层，回收效率高。
湿法化学回收：利用酸碱进行溶解分离，适合大批量废靶材。
热处理工艺：部分回收方案采用高温分离，能耗较大。
氧化铟锡(ITO)靶材广泛应用于平板显示器和太阳能电池的生产，在ITO目标使用了一段时间后，将其替换为新的目标，用过的ITO靶含有大量的铟，可以通过各种工艺回收。