ITO靶材，全称氧化铟锡靶材，是一种专门用于磁控溅射镀膜的材料。氧化铟锡（简称ITO）是一种n型半导体材料，通常由90%的氧化铟（In₂O₃）和10%的氧化锡（SnO₂）组成。这种材料以其的透明度和导电性，成为现代电子工业中不可或缺的组成部分。无论是智能手机的触摸屏、平板电脑的显示面板，还是太阳能电池的透明电极，ITO靶材都以其独特的功能支撑着这些设备的运行。
铟靶材主要由金属铟制成，具有质软、延展性好和导电性强的特点。作为稀有金属，铟在自然界的含量稀少，但其独特的物理和化学性质使其成为众多高科技产品的核心组件。铟靶材广泛应用于航空航天、电子工业等领域，是制造高性能电子元器件的关键材料。
区别对比
成分差异：铟靶材为纯金属铟制成，而ITO靶材则是铟锡氧化物的复合物。
用途不同：铟靶材主要用于需要高导电性和延展性的领域，如航空航天部件；ITO靶材则因其透明导电性广泛应用于光电显示领域。
性能特点：铟靶材更侧重于导电性和机械强度，而ITO靶材则兼顾导电性和光学透明性。
闭环之困：损耗与机遇并存
ITO靶材在溅射镀膜过程中利用率通常仅30%左右，大量含铟废料（废旧靶材、边角料、镀膜腔室废料）随之产生。过去，这些价值的废料往往被简单处理或堆积。建立从“废靶材→再生铟→新靶材”的闭环体系，成为破解资源约束的黄金路径。
