铟靶是指以铟为主要成分的溅射靶材，是一种在材料表面镀膜过程中用于提供铟源的材料。在真空溅射镀膜工艺中，铟靶材在高能粒子的轰击下，铟原子被溅射出来并沉积在基底材料表面，形成所需的铟薄膜。
显示技术领域：广泛应用于 LCD、OLED、AMOLED 等平板显示器件中作为透明电极，确保显示设备既能透光显示图像，又能导电传输信号。
精铟是指纯度的金属铟，通常纯度在 99.99%（4N）以上，高纯度规格可达 99.9999%（6N）甚至更高.精铟是通过精炼工艺去除铟原料中的杂质（如铅、锌、镉、锡等）后得到的高纯度金属，呈银白色光泽，质地柔软，具有良好的延展性和导电性。
半导体与电子工业（占比约 25%）：
焊料与封装：利用铟的低熔点和延展性，作为半导体芯片的焊接材料（如倒装焊、热沉连接），可适应精密器件的高温稳定性需求。
化合物半导体：与镓、砷等元素合成 InGaAs、InP 等化合物，用于 5G 芯片、激光器、探测器（如红外成像器件）。