物理性质
熔点与沸点：熔点为 156.6 ℃，沸点为 2075 ℃。
可塑性与延展性：具有优良的可塑性、延展性，能够无限制任意变形、压成极薄的金属片。
导电性与导热性：导电性约为铜的 1/5，热膨胀系数几乎超过铜的一倍。
其他：在氢气或真空中加热铟会发生升华，熔化的铟能够润湿干净的玻璃，还具有超导性能、润滑性能、耐磨性能、光透性。
化学性质
与单质反应：铟在空气中稳定，加热到熔点以上会氧化成 In₂O₃；能与硫在高温加热的条件下反应，生成 InS 或 In₂S₃；室温下能与氟、氯、溴反应生成 InF₃、InCl₃、InBr₃，加热条件下与碘蒸气发生反应；能与氮气在高温下反应；也能与钍、铌、铂等金属发生反应。
与无机化合物反应：铟能与盐酸、稀高氯酸、稀硝酸等反应生成对应的盐和氢气，与浓硝酸在加热的条件下反应生成硝酸铟、二氧化氮和水；能与过量的氢氧化钠、氢氧化钾反应；还能与氯化铟、溴化汞、硫化铟、三氧化铟等卤化物发生反应。
与有机化合物反应：铟能与烷基氯、烷基溴、烷基碘以及十羰基合二锰等有机化合物反应。
铟的应用高度依赖其高导电性、透明性、低熔点、耐腐蚀性和独特的核物理性质，尤其在电子信息和新能源领域不可替代。随着 5G、新能源汽车、量子计算等技术的发展，铟的战略地位将进一步提升。然而，铟资源稀缺（全球储量约 5 万吨，主要伴生于锌矿），需关注可持续开采和回收利用（如从废旧显示屏中提取铟）。
精铟的核心特性
超高纯度
杂质含量极低（如铅、锌、铁等金属杂质通常低于百万分之一），确保材料性能的稳定性和可靠性。
物理性质优异
导电性：电阻率低（约 8.3 × 10⁻⁸ Ω・m），接近纯银，适合高频电路和精密电子器件。
延展性：可轧制成厚度仅 0.1 微米的箔材，或拉成极细的导线，用于柔性电子和微纳加工。
低熔点：熔点 156.6℃，便于低温焊接和合金制备，且焊接过程中不易损伤敏感元件。
化学稳定性
在常温下不易氧化（需在高温或强腐蚀性环境中才会反应），适合高要求的密封和涂层应用。