物理特性：铟靶材呈银色光泽的灰色，熔点为 156.61℃，沸点 2060℃，密度 7.3 g/cm³。质地非常软，能用指甲刻痕，可塑性强，有良好的延展性，可压成片。
化学特性：铟具有较好的化学稳定性，但在一些特定的环境下，如高温、强酸碱等条件下，可能会发生化学反应。铟化合物在真空下蒸发，能够在电子产品和光伏电池生产中形成薄膜。
光学领域：用于制造反射率与银镜一样高但不会褪色的镜，还可用于制造其他光学器件，如滤光片、光通信器件等。
其他领域：可用于制造低熔点合金，如 24％铟和 76％镓的合金在室温下为液态，此外，还可用于制造整流器、热敏电阻和光电导体等电气组件。
平板显示（LCD/OLED/Micro-LED）
核心用途：制备透明导电薄膜（如氧化铟锡，ITO），作为显示面板的电极层和触控层。
LCD：用于玻璃基板的 ITO 薄膜，实现像素电极的导电功能。
OLED/Micro-LED：作为柔性基板（如 PI 膜）的透明电极，满足柔性显示对材料延展性的要求。
市场占比：全球超过 70% 的铟靶材用于显示面板生产，是 LCD/OLED 产业链的关键材料。
铟靶是现代电子信息、新能源、高端制造等战略性新兴产业的底层关键材料，其应用深度和广度直接反映一个国家在半导体、显示、光伏等领域的技术水平。由于全球铟资源稀缺（主要伴生于锌矿），且提纯工艺复杂，铟靶的供应链已成为各国关注的重点。未来，随着 5G、AI、新能源汽车等产业的爆发，铟靶的需求将持续增长，同时推动高纯铟（99.999% 以上）制备技术的不断突破。