随着高科技产业的迅猛发展，稀有金属铟的需求日益增长。铟靶材与ITO靶材作为关键材料，在电子、光电及半导体等领域发挥着重要作用。本文旨在探讨铟靶材与ITO靶材的区别，以及它们在回收技术、环保与经济效益方面的差异。

ITO废料来源与回收技术 ITO废料来源于生产废料、终端废料及工业副产物，为回收提供了丰富资源。ITO废料来源于多个方面。首先，在ITO靶材的生产过程中，会产生切削碎屑和镀膜后的废靶材，这些属于生产废料。其次，随着电子产品的更新换代，废弃的LCD面板、智能手机屏幕以及光伏薄膜等电子垃圾也逐渐增多，这些被称为终端废料。此外，金属冶炼过程中也会产生含铟烟尘或废渣，这属于工业副产物。这些不同来源的ITO废料，为铟的回收利用提供了丰富的资源。

火法-湿法联合工艺 结合两种工艺优势提升效率： 废靶材先经回转窑1200℃挥发富集，铟含量从0.1%提升至0.5%。 富铟烟尘通过酸浸-萃取-电解流程精炼，整体回收率从传统工艺的54%提升至85%。 该方案投资成本较单一湿法降低30%，但需配套烟气净化系统防止铟挥发损失。 韶关运田金属总结：随着光伏和显示面板产业扩张，2025年中国ITO靶材回收市场规模预计突破50亿元。物理法因成本优势（处理成本2000元/吨）在中小型企业普及，而大型企业更倾向联合工艺（综合回收率>90%）。 未来发展方向将聚焦：短流程设计（工序减少40%）、智能化控制系统（能耗降低25%）、以及铟锡同步回收技术的突破。

溶剂萃取法（化学法） 以湿法冶金为基础，通过P204萃取剂选择性富集铟： 含铟物料经硫酸浸出后，在pH=1.5-2.0条件下进行三级逆流萃取，铟萃取率可达98%。 该工艺对低品位原料（含铟0.02%）适用性强，但存在试剂消耗大（硫酸用量2-3吨/吨铟）、废水处理成本高的问题。