主流回收工艺分类 当前ITO靶材回收主要围绕铟元素提取展开,主要分为物理法、化学法和联合工艺三类: 熔炼过滤法(物理法) 通过高温熔炼结合筛网过滤实现铟与其他金属的分离。具体流程包括: 废铟块在625℃熔炼炉中熔化,利用铁/不锈钢筛网(30-40目)截留固态杂质铁、铝。 熔融铟通过重力滴落收集,残留物可二次熔炼提升回收率至72%。 该方法具有设备简单(图1)、周期短(单次处理≤60分钟)的优势,适用于含铟量70%-90%的废靶材。但需控温(±5℃),否则杂质金属可能熔化导致纯度下降至95%以下。
铟回收的重要性 铟在ITO靶材、半导体、合金等领域的应用表明其在电子和光伏产业中的关键作用,推动了铟回收的必要性。铟,这一关键元素在ITO废料回收中扮演着至关重要的角色。通过回收这些废料,可以显著减少原矿开采成本,高达50%。同时,随着半导体和光伏领域的迅猛发展,对高纯铟的需求也呈现出刚性增长,进一步凸显了铟回收的紧迫性和重要性。
物理分离法中的机械剥离技术,是通过破碎、筛分和浮选等方法,将ITO涂层与玻璃基板进行分离。随后,再结合化学处理对分离出的ITO涂层进行铟的提取。这种方法主要适用于LCD面板的回收,但需注意,其纯度可能相对较低。再生铟的应用广泛,包括重新制备ITO靶材,以及在半导体、合金等领域的使用。从经济角度看,回收1吨铟可以减少大约50吨原矿的开采,同时,回收铟的成本相比原生铟要低30%~50%。综上所述,ITO铟的回收不仅对环境友好,还能带来显著的经济效益。随着科技的不断进步和电子废弃物数量的不断增加,且环保的回收方案将成为稀散金属可持续利用的关键所在。
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