小金属：粗铟，精铟，ito铟靶材，粗稼，金属镓99.99以及废料。高价回收镍片，铣刀， 数控刀片， 轻质数控刀，废合金针，针尖，铟.铟丝.氧化铟.
氧化铟是一种宽禁带半导体，具有良好的光学透明性，而氧化锡的引入则增强了材料的导电性。这种成分结构使得ITO材料在保证高透光率的同时也具有低电阻率，兼具光学和电学性能。ITO靶材的这一独特特性使其成为透明导电膜的主流材料，尤其适用于要求高透明度的光电设备和显示技术。
主流回收工艺分类
当前ITO靶材回收主要围绕铟元素提取展开，主要分为物理法、化学法和联合工艺三类：
熔炼过滤法（物理法）
通过高温熔炼结合筛网过滤实现铟与其他金属的分离。具体流程包括：
废铟块在625℃熔炼炉中熔化，利用铁/不锈钢筛网（30-40目）截留固态杂质铁、铝。
熔融铟通过重力滴落收集，残留物可二次熔炼提升回收率至72%。
该方法具有设备简单（图1）、周期短（单次处理≤60分钟）的优势，适用于含铟量70%-90%的废靶材。但需控温（±5℃），否则杂质金属可能熔化导致纯度下降至95%以下。
ITO靶材回收流程
ITO靶材的回收流程通常包括以下几个步骤：
1. 收集与分类：将废旧ITO靶材进行收集，并根据其种类、纯度等进行分类。
2. 破碎与研磨：将分类后的靶材进行破碎和研磨，使其变成粉末状，便于后续处理。
3. 化学分离：采用化学方法将粉末中的铟、锡等元素进行有效分离。
4. 提纯与精炼：对分离出的铟、锡等元素进行提纯和精炼，得到高纯度的金属产品。
5. 再加工：将提纯后的金属产品加工成新的靶材或其他产品，实现资源的循环利用。