氧化铟是一种宽禁带半导体，具有良好的光学透明性，而氧化锡的引入则增强了材料的导电性。这种成分结构使得ITO材料在保证高透光率的同时也具有低电阻率，兼具光学和电学性能。ITO靶材的这一独特特性使其成为透明导电膜的主流材料，尤其适用于要求高透明度的光电设备和显示技术。

流回收工艺分类 当前ITO靶材回收主要围绕铟元素提取展开，主要分为物理法、化学法和联合工艺三类： 熔炼过滤法（物理法） 通过高温熔炼结合筛网过滤实现铟与其他金属的分离。具体流程包括： 废铟块在625℃熔炼炉中熔化，利用铁/不锈钢筛网（30-40目）截留固态杂质铁、铝。 熔融铟通过重力滴落收集，残留物可二次熔炼提升回收率至72%。 该方法具有设备简单（图1）、周期短（单次处理≤60分钟）的优势，适用于含铟量70%-90%的废靶材。但需控温（±5℃），否则杂质金属可能熔化导致纯度下降至95%以下。

铟回收的重要性 铟在ITO靶材、半导体、合金等领域的应用表明其在电子和光伏产业中的关键作用，推动了铟回收的必要性。铟，这一关键元素在ITO废料回收中扮演着至关重要的角色。通过回收这些废料，可以显著减少原矿开采成本，高达50%。同时，随着半导体和光伏领域的迅猛发展，对高纯铟的需求也呈现出刚性增长，进一步凸显了铟回收的紧迫性和重要性。

ITO靶材回收现状 随着科技的飞速发展，ITO靶材的需求量持续增长。然而，ITO靶材的生产过程中需要消耗大量的铟资源，而铟是一种稀有的有色金属，全球储量有限。因此，ITO靶材的回收再利用不仅有助于节约资源，还能减少环境污染，实现可持续发展。 目前，市场上已有不少专业的ITO靶材回收企业，他们通过先进的回收技术和设备，将废旧ITO靶材中的铟、锡等元素进行有效分离和提纯，再加工成新的靶材产品，实现了资源的循环利用。