主流回收工艺分类 当前ITO靶材回收主要围绕铟元素提取展开，主要分为物理法、化学法和联合工艺三类： 熔炼过滤法（物理法） 通过高温熔炼结合筛网过滤实现铟与其他金属的分离。具体流程包括： 废铟块在625℃熔炼炉中熔化，利用铁/不锈钢筛网（30-40目）截留固态杂质铁、铝。 熔融铟通过重力滴落收集，残留物可二次熔炼提升回收率至72%。 该方法具有设备简单（图1）、周期短（单次处理≤60分钟）的优势，适用于含铟量70%-90%的废靶材。但需控温（±5℃），否则杂质金属可能熔化导致纯度下降至95%以下。

回收1吨铟可减少50吨原矿开采，成本降低30%~50%。高纯铟需求稳定，半导体和光伏领域推动回收紧迫性。湿法、火法冶金等技术灵活适配不同废料，实现资源可持续利用。

当前，铟的主要消费领域集中在ITO靶材上，其占比高达约70%。此外，半导体制造和合金领域的需求也不容忽视，两者合计占总消费量的24%，而其他研究领域则占据了6%。然而，由于ITO制造过程中靶材利用率仅达30%左右，导致大量剩余材料成为废料。加之电子废弃物的激增，铟回收已成为资源可持续利用不可或缺的一环。随着技术进步和应用需求的增长，ITO废料回收能有效减少原矿资源消耗，实现资源的可持续性发展。

ITO靶材，即铟锡氧化物靶材，主要由氧化铟（In₂O₃）和氧化锡（SnO₂）组成，其中氧化铟占比高达90%。ITO靶材因其优异的导电性和高透光性，成为液晶显示器（LCD）、触摸屏及太阳能电池等光电设备的理想材料。其晶体结构稳定，电导率高，确保了设备的运行。