TO靶材回收流程 ITO靶材的回收流程通常包括以下几个步骤： 1. 收集与分类：将废旧ITO靶材进行收集，并根据其种类、纯度等进行分类。 2. 破碎与研磨：将分类后的靶材进行破碎和研磨，使其变成粉末状，便于后续处理。 3. 化学分离：采用化学方法将粉末中的铟、锡等元素进行有效分离。 4. 提纯与精炼：对分离出的铟、锡等元素进行提纯和精炼，得到高纯度的金属产品。 5. 再加工：将提纯后的金属产品加工成新的靶材或其他产品，实现资源的循环利用。

ITO靶材，即铟锡氧化物靶材，主要由氧化铟（In₂O₃）和氧化锡（SnO₂）组成，其中氧化铟占比高达90%。ITO靶材因其优异的导电性和高透光性，成为液晶显示器（LCD）、触摸屏及太阳能电池等光电设备的理想材料。其晶体结构稳定，电导率高，确保了设备的运行。

铟回收的重要性 铟在ITO靶材、半导体、合金等领域的应用表明其在电子和光伏产业中的关键作用，推动了铟回收的必要性。铟，这一关键元素在ITO废料回收中扮演着至关重要的角色。通过回收这些废料，可以显著减少原矿开采成本，高达50%。同时，随着半导体和光伏领域的迅猛发展，对高纯铟的需求也呈现出刚性增长，进一步凸显了铟回收的紧迫性和重要性。

主流回收工艺分类 当前ITO靶材回收主要围绕铟元素提取展开，主要分为物理法、化学法和联合工艺三类： 熔炼过滤法（物理法） 通过高温熔炼结合筛网过滤实现铟与其他金属的分离。具体流程包括： 废铟块在625℃熔炼炉中熔化，利用铁/不锈钢筛网（30-40目）截留固态杂质铁、铝。 熔融铟通过重力滴落收集，残留物可二次熔炼提升回收率至72%。 该方法具有设备简单（图1）、周期短（单次处理≤60分钟）的优势，适用于含铟量70%-90%的废靶材。但需控温（±5℃），否则杂质金属可能熔化导致纯度下降至95%以下。