铟靶材主要由金属铟制成，具有质软、延展性好和导电性强的特点。作为稀有金属，铟在自然界的含量稀少，但其独特的物理和化学性质使其成为众多高科技产品的核心组件。铟靶材广泛应用于航空航天、电子工业等领域，是制造高性能电子元器件的关键材料。

物理分离法中的机械剥离技术，是通过破碎、筛分和浮选等方法，将ITO涂层与玻璃基板进行分离。随后，再结合化学处理对分离出的ITO涂层进行铟的提取。这种方法主要适用于LCD面板的回收，但需注意，其纯度可能相对较低。再生铟的应用广泛，包括重新制备ITO靶材，以及在半导体、合金等领域的使用。从经济角度看，回收1吨铟可以减少大约50吨原矿的开采，同时，回收铟的成本相比原生铟要低30%~50%。综上所述，ITO铟的回收不仅对环境友好，还能带来显著的经济效益。随着科技的不断进步和电子废弃物数量的不断增加，且环保的回收方案将成为稀散金属可持续利用的关键所在。

铟回收的重要性 铟在ITO靶材、半导体、合金等领域的应用表明其在电子和光伏产业中的关键作用，推动了铟回收的必要性。铟，这一关键元素在ITO废料回收中扮演着至关重要的角色。通过回收这些废料，可以显著减少原矿开采成本，高达50%。同时，随着半导体和光伏领域的迅猛发展，对高纯铟的需求也呈现出刚性增长，进一步凸显了铟回收的紧迫性和重要性。

溶剂萃取法（化学法） 以湿法冶金为基础，通过P204萃取剂选择性富集铟： 含铟物料经硫酸浸出后，在pH=1.5-2.0条件下进行三级逆流萃取，铟萃取率可达98%。 该工艺对低品位原料（含铟0.02%）适用性强，但存在试剂消耗大（硫酸用量2-3吨/吨铟）、废水处理成本高的问题。