氧化铟是一种宽禁带半导体，具有良好的光学透明性，而氧化锡的引入则增强了材料的导电性。这种成分结构使得ITO材料在保证高透光率的同时也具有低电阻率，兼具光学和电学性能。ITO靶材的这一独特特性使其成为透明导电膜的主流材料，尤其适用于要求高透明度的光电设备和显示技术。
当前ITO靶材回收主要围绕铟元素提取展开，主要分为物理法、化学法和联合工艺三类：
熔炼过滤法（物理法）
通过高温熔炼结合筛网过滤实现铟与其他金属的分离。具体流程包括：
废铟块在625℃熔炼炉中熔化，利用铁/不锈钢筛网（30-40目）截留固态杂质铁、铝。
熔融铟通过重力滴落收集，残留物可二次熔炼提升回收率至72%。
该方法具有设备简单（图1）、周期短（单次处理≤60分钟）的优势，适用于含铟量70%-90%的废靶材。但需控温（±5℃），否则杂质金属可能熔化导致纯度下降至95%以下。
ITO废料来源于生产废料、终端废料及工业副产物，为回收提供了丰富资源。ITO废料来源于多个方面。首先，在ITO靶材的生产过程中，会产生切削碎屑和镀膜后的废靶材，这些属于生产废料。其次，随着电子产品的更新换代，废弃的LCD面板、智能手机屏幕以及光伏薄膜等电子垃圾也逐渐增多，这些被称为终端废料。此外，金属冶炼过程中也会产生含铟烟尘或废渣，这属于工业副产物。这些不同来源的ITO废料，为铟的回收利用提供了丰富的资源。
目前，市场上已有不少专业的ITO靶材回收企业，他们通过先进的回收技术和设备，将废旧ITO靶材中的铟、锡等元素进行有效分离和提纯，再加工成新的靶材产品，实现了资源的循环利用。