鸿运鑫主要回收范围：

冶炼厂：黄金，白银，铂金，钯金，铑金，银锌电瓶，以及粗铅,贵铅,阳极泥等废料;

矿山厂：铜粉，铅粉，活性炭，载金炭，炭泥，银粉，银泥，金泥，一切炼金，炼银，炼铂，钯铑的废渣废料等。

电镀厂：金盐、银盐、海绵金粉、氧化铟粉、金银废水等废料；

电子厂：半导体蓝膜，半导体镀金硅片、镀银瓷片、压敏电阻、薄膜开关，废冷光片，背光源，废银浆、钯浆、擦银布、擦金布，银浆罐、金浆罐、含钯陶瓷片，含金陶瓷片，含银的陶瓷片、银焊条、银焊丝、银粉、导电银胶，镀金，镀银，镀铑镀铂等废料。

首饰厂：抛光打磨粉，地毯，洗手池等废料；

印刷厂：印刷废菲林、X光片、定影水；

化工石油厂：钯，铂，铑，钌催化剂等。

氧化铟是一种宽禁带半导体，具有良好的光学透明性，而氧化锡的引入则增强了材料的导电性。这种成分结构使得ITO材料在保证高透光率的同时也具有低电阻率，兼具光学和电学性能。ITO靶材的这一独特特性使其成为透明导电膜的主流材料，尤其适用于要求高透明度的光电设备和显示技术。

主流回收工艺分类

当前ITO靶材回收主要围绕铟元素提取展开，主要分为物理法、化学法和联合工艺三类：

熔炼过滤法（物理法）

通过高温熔炼结合筛网过滤实现铟与其他金属的分离。具体流程包括：

废铟块在625℃熔炼炉中熔化，利用铁/不锈钢筛网（30-40目）截留固态杂质铁、铝。

熔融铟通过重力滴落收集，残留物可二次熔炼提升回收率至72%。

该方法具有设备简单（图1）、周期短（单次处理≤60分钟）的优势，适用于含铟量70%-90%的废靶材。但需控温（±5℃），否则杂质金属可能熔化导致纯度下降至95%以下。

溶剂萃取法（化学法）

以湿法冶金为基础，通过P204萃取剂选择性富集铟：

含铟物料经硫酸浸出后，在pH=1.5-2.0条件下进行三级逆流萃取，铟萃取率可达98%。

该工艺对低品位原料（含铟0.02%）适用性强，但存在试剂消耗大（硫酸用量2-3吨/吨铟）、废水处理成本高的问题。