主流回收工艺分类 当前ITO靶材回收主要围绕铟元素提取展开,主要分为物理法、化学法和联合工艺三类: 熔炼过滤法(物理法) 通过高温熔炼结合筛网过滤实现铟与其他金属的分离。具体流程包括: 废铟块在625℃熔炼炉中熔化,利用铁/不锈钢筛网(30-40目)截留固态杂质铁、铝。 熔融铟通过重力滴落收集,残留物可二次熔炼提升回收率至72%。 该方法具有设备简单(图1)、周期短(单次处理≤60分钟)的优势,适用于含铟量70%-90%的废靶材。但需控温(±5℃),否则杂质金属可能熔化导致纯度下降至95%以下。
剂萃取法(化学法) 以湿法冶金为基础,通过P204萃取剂选择性富集铟: 含铟物料经硫酸浸出后,在pH=1.5-2.0条件下进行三级逆流萃取,铟萃取率可达98%。 该工艺对低品位原料(含铟0.02%)适用性强,但存在试剂消耗大(硫酸用量2-3吨/吨铟)、废水处理成本高的问题。
ITO靶材,即铟锡氧化物靶材,主要由氧化铟(In₂O₃)和氧化锡(SnO₂)组成,其中氧化铟占比高达90%。ITO靶材因其优异的导电性和高透光性,成为液晶显示器(LCD)、触摸屏及太阳能电池等光电设备的理想材料。其晶体结构稳定,电导率高,确保了设备的运行。
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