全板电镀铜及维护：
全板电镀铜工艺用于保护新沉积的化学铜层，防止其被酸浸蚀，并通过电镀增厚铜层至适当程度。槽液成分主要包括硫酸铜和硫酸，采用高酸低铜配方，以确保电镀时板面厚度的均匀分布和对深孔小孔的充分覆盖。为了保持工艺稳定，需每天根据千安小时消耗情况补充铜光剂，且每两周更换过滤泵滤芯。
镀镍与维护：
镀镍工艺在电路板制造中扮演着重要角色。镀镍作为铜与金的过渡层，防止金铜互相扩散，影响板子的可焊性和使用寿命。镀镍添加剂的补充通常依据千安小时或实际生产板的效果，需控制温度与添加剂进行定期维护。
垂直电镀工艺的局限性：
究其原因，这主要与电镀过程中的电流分布有关。在实际操作中，孔内电流往往呈现腰鼓形分布，即从孔边到孔中央逐渐减弱。这种分布特点导致大量铜沉积在表面与孔边，而孔中央所需铜层厚度则难以达到标准。严重时，铜层过薄或无铜层，给多层板的生产带来巨大损失。垂直电镀工艺在电流分布上存在问题，影响铜层的均匀沉积，尤其在高纵横比条件下。
电镀原理与基本流程：
水平电镀与垂直电镀在方法和原理上虽有所差异，但核心要素相似。它们都依赖阴阳两极的设定，通过通电引发电极反应，使得电解液中的主成分发生电离。正离子在电场作用下向电极反应区的负极移动，而负离子则向正极移动，从而形成金属沉积镀层并释放气体。
在水平电镀过程中，镀液中的铜离子主要通过三种方式输送到阴极附近：一是靠扩散作用，二是靠离子迁移，三是靠主体镀液的对流作用及离子迁移。这些过程共同构成了水平电镀的基本原理。水平电镀通过电流反应沉积金属，借助于对流、离子迁移等手段实现镀层均匀。
