载板可分为两类：
1.
薄层色谱载板：作为平面介质负载固定相，基材包括玻璃板、金属板或塑料板；
2.
IC载板：用于集成电路封装，包含ABF载板、FCBGA载板等类型，采用高密度加成构装技术实现芯片与电路板的信号导通
随着线路板高密度的发展趋势，线路板的生产要求越来越高，越来越多的新技术应用于线路板的生产，如激光技术，感光树脂等等。以上仅仅是一些表面的肤浅的介绍，线路板生产中还有许多东西因篇幅限制没有说明，如盲埋孔、绕性板、特氟珑板，光刻技术等等。如要深入的研究还需自己努力。
垂直电镀工艺的局限性：
究其原因，这主要与电镀过程中的电流分布有关。在实际操作中，孔内电流往往呈现腰鼓形分布，即从孔边到孔中央逐渐减弱。这种分布特点导致大量铜沉积在表面与孔边，而孔中央所需铜层厚度则难以达到标准。严重时，铜层过薄或无铜层，给多层板的生产带来巨大损失。垂直电镀工艺在电流分布上存在问题，影响铜层的均匀沉积，尤其在高纵横比条件下。
电镀原理与基本流程：
水平电镀与垂直电镀在方法和原理上虽有所差异，但核心要素相似。它们都依赖阴阳两极的设定，通过通电引发电极反应，使得电解液中的主成分发生电离。正离子在电场作用下向电极反应区的负极移动，而负离子则向正极移动，从而形成金属沉积镀层并释放气体。
在水平电镀过程中，镀液中的铜离子主要通过三种方式输送到阴极附近：一是靠扩散作用，二是靠离子迁移，三是靠主体镀液的对流作用及离子迁移。这些过程共同构成了水平电镀的基本原理。水平电镀通过电流反应沉积金属，借助于对流、离子迁移等手段实现镀层均匀。
