线路板的电镀工艺是其加工过程中的关键技术，通常包括酸性光亮铜电镀、镍/金、锡等工艺。本文将详细介绍电镀工艺中的技术、流程以及具体操作方法。
02、浸酸工艺
浸酸工艺的主要目的是除去板面氧化物，活化板面。通常，酸液浓度维持在5%左右，有时会达到10%，旨在防止水分带入导致的槽液硫酸含量波动。在操作过程中，需注意酸浸时间不宜过长，以防板面氧化。此外，若酸液变得浑浊或铜含量过高，应及时更换。
除油与微蚀：
在生产过程中，酸性除油用于清除线路铜面上的氧化物、油墨残膜和余胶，以确保铜与图形电镀铜或镍之间的结合力。微蚀工艺采用过硫酸钠，对线路铜面进行粗化清洁，以确保图形电镀铜与铜之间的结合力。
在微电子技术日新月异的今天，印制电路板制造正朝着多层化、积层化、功能化和集成化的方向不断演进，这无疑对制造技术提出了更为严苛的挑战。传统的垂直电镀工艺已难以满足高质量、高可靠性互连孔的技术需求，因此，水平电镀技术应运而生。
电镀原理与基本流程：
水平电镀与垂直电镀在方法和原理上虽有所差异，但核心要素相似。它们都依赖阴阳两极的设定，通过通电引发电极反应，使得电解液中的主成分发生电离。正离子在电场作用下向电极反应区的负极移动，而负离子则向正极移动，从而形成金属沉积镀层并释放气体。
在水平电镀过程中，镀液中的铜离子主要通过三种方式输送到阴极附近：一是靠扩散作用，二是靠离子迁移，三是靠主体镀液的对流作用及离子迁移。这些过程共同构成了水平电镀的基本原理。水平电镀通过电流反应沉积金属，借助于对流、离子迁移等手段实现镀层均匀。
