PCB几乎我们能见到的电子设备都离不开它，小到电子手表、计算器、通用电脑，大到计算机、通迅电子设备、军用武器系统，只要有集成电路等电子无器件，它们之间电气互连都要用到PCB。它提供集成电路等各种电子元器件固定装配的机械支撑、实现集成电路等各种电子元器件之间的布线和电气连接或电绝缘、提供所要求的电气特性，如特性阻抗等。同时为自动锡焊提供阻焊图形；为元器件插装、检查、维修提供识别字符和图形。
线路板的电镀工艺是其加工过程中的关键技术，通常包括酸性光亮铜电镀、镍/金、锡等工艺。本文将详细介绍电镀工艺中的技术、流程以及具体操作方法。
02、浸酸工艺
浸酸工艺的主要目的是除去板面氧化物，活化板面。通常，酸液浓度维持在5%左右，有时会达到10%，旨在防止水分带入导致的槽液硫酸含量波动。在操作过程中，需注意酸浸时间不宜过长，以防板面氧化。此外，若酸液变得浑浊或铜含量过高，应及时更换。
PCB电镀的主要方法包括浸镀、喷镀和刷镀等。
浸镀：将电路板完全浸入含有金属离子的电镀液中，通过电流作用使金属离子在电路板表面沉积形成金属薄膜。浸镀具有操作简单、成本低廉的优点，但可能存在金属层分布不均匀的问题。
喷镀：利用喷枪将电镀液喷洒在电路板表面，通过控制喷枪的移动速度和角度，实现金属层的均匀分布。喷镀适用于对金属层厚度和分布要求较高的场合。
刷镀：使用刷子将电镀液涂抹在电路板表面，通过刷子的摩擦作用使金属离子在电路板表面沉积。刷镀适用于对局部区域进行电镀的情况。
水平电镀技术的产生：
为解决这一问题，行业内外纷纷探索深孔电镀技术的改进措施。在高纵横比印制电路板电镀铜工艺中，通过加入优质添加剂、适度空气搅拌和阴极移动等手段，配合低电流密度条件，成功扩大了孔内电极反应控制区，从而提高了电镀添加剂的效果。此外，阴极移动还有助于提升镀液的深镀能力，增加镀件的极化度，使晶核形成速度与晶粒长大速度相互平衡，最终获得高韧性铜层。
然而，随着通孔纵横比的进一步增大或深盲孔的出现，这些工艺措施逐渐显得力不从心。正是在这样的背景下，水平电镀技术应运而生。这一技术是在垂直电镀工艺的基础上发展起来的新颖电镀技术，通过制造相适应的水平电镀系统，配合改进的供电方式和辅助装置，能够显示出比垂直电镀法更为出色的功能作用。
