前处理：包括除油、微蚀等步骤，去除基板表面的有机物和氧化层，粗化表面以提高镀层附着力。对于罗杰斯等特殊基材，可能还需要进行等离子体处理。
种子层沉积：采用化学镀或物相沉积（PVD）方法，在基板表面形成一层薄的导电种子层，通常为铜或镍，厚度约 0.1-0.5μm。
镀层相关故障
镀层不均匀 / 厚度偏差：高频线路对厚度一致性要求，故障表现为局部镀层偏厚或偏薄，直接导致阻抗波动超标。多因电流密度分布不均、镀液搅拌不充分，或光刻胶开窗精度偏差引发。
镀层附着力差 / 脱落：后续焊接或使用中镀层起皮、剥离，常见于罗杰斯等特殊基材。主要是前处理不彻底（残留油污、氧化层），或基材未做等离子体活化处理，导致镀层与基材结合力不足。
镀层粗糙 / 针孔：表面出现颗粒状凸起或微小孔洞，影响信号传输平滑性。成因包括镀液杂质过多、添加剂比例失衡，或电镀时氢气析出未及时排出。
镀层氧化 / 变色：尤其银镀层易出现发黄、发黑，降低导电性。多因后处理未及时做防氧化涂覆，或储存环境湿度、温度超标。
信号性能相关故障
阻抗超标：高频信号传输时阻抗波动超过 ±3%，导致信号反射、损耗增大。除了镀层厚度不均，还可能是镀层结晶结构不佳（如铜镀层晶粒粗大），或线路侧蚀严重破坏阻抗设计。
高频损耗异常：插入损耗、回波损耗不达标，常见于脉冲电镀工艺参数不当。比如脉冲频率、占空比设置不合理，导致镀层趋肤效应增强，信号衰减加剧。
种子层沉积：构建导电基底
采用物相沉积（PVD）或化学镀，在绝缘基材表面沉积超薄导电层（铜或镍）。
种子层厚度控制在 0.1-0.5μm，要求覆盖均匀、无针孔，为后续图形电镀提供稳定导电通道。
沉积后需做简易附着力检测，避免种子层脱落影响后续工艺。
