关键加工环节
前处理：包括除油、微蚀、活化，确保载板表面洁净无杂质。
电镀沉积：通过电解或化学沉积方式，让金属离子均匀附着在载板表面。
后处理：涵盖清洗、烘干、检测，保障镀层质量达标。
核心工艺要求
镀层精度：厚度公差需控制在 ±0.1μm 内，镀层均匀性误差不超过 5%。
适配细线路需求：针对 IC 载板的微线路（线宽 / 线距＜20μm），需避免镀层桥连、空洞。
材质兼容性强：需匹配 ABF 膜、BT 树脂、陶瓷等不同载板基材，不损伤基材性能。
电子载板电镀加工关键选型与成本要点
镀层选型：常规场景用铜 + 锡镀层（低成本），高端场景选镍 + 金镀层（高可靠性），特种场景用钯、铑等稀有金属镀层。
成本控制：批量加工可降低单位材料损耗，简化镀层结构（如减少贵金属厚度），优化前处理工艺以提升良率。
质量标准：需符合 IPC、JIS 等行业规范，重点检测镀层厚度（XRF）、附着力（划格测试）、耐环境性（高低温、盐雾测试）。
通讯载板电镀加工关键技术
电镀液配方优化：为了实现高精度的电镀效果，需要针对不同的镀层和工艺要求，优化电镀液配方。例如，铜镀液中铜离子浓度、硫酸浓度以及添加剂的种类和含量等都需要控制，以保证镀层的均匀性、致密度和附着力。
添加剂控制：添加剂在通讯载板电镀中起着关键作用，通过控制抑制剂、光亮剂和整平剂等添加剂的浓度和比例，可以实现超细线路的均匀电镀，避免出现镀层桥连、空洞等缺陷。
设备与工艺参数调控：先进的电镀设备能够控制电场、电流密度、温度、时间等参数，确保电镀过程的稳定性和一致性。例如，在脉冲电镀中，通过合理设置脉冲参数，可以改善镀层的结晶结构，提高镀层的性能。
